В книге с единых позиций рассмотрены законы распределения состава в эпитаксиальных и рекристаллизованных слоях, а также распределения состава при введении примеси в подложку при диффузионном легировании и ионной имплантации. Все описание ведется на основе теории диффузионных и кристаллизационных процессов. Математический аппарат, терминология и обозначения соответствуют тем, которые применяются при описании процессов перераспределения состава в объемных кристаллах. Книга рассчитана на научно-технических работников предприятий полупроводниковой промышленности. Может быть полезна преподавателям вузов, аспирантам и студентам старших курсов, специализирующимся в области твердотельного приборостроения. Представляет интерес и для работников, связанных с изготовлением слоев неполупроводниковых ма�... Это и многое другое вы найдете в книге Управление составом полупроводниковых слоев (В. Н. Романенко)