Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами Сергей Юрьевич Юрчук (книга)
Подробная информация о книге «Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами Сергей Юрьевич Юрчук». Сайт не предоставляет возможности читать онлайн или скачать бесплатно книгу «Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами Сергей Юрьевич Юрчук».
Поделиться
Рейтинг книги enc.su: 0,0
О книге
| Полное название книги | Сергей Юрьевич Юрчук Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами |
| Тип | Книга |
| Автор | Сергей Юрьевич Юрчук |
| Категории | |
| ISBN | |
| Возрастное ограничение | 18 |
| Год | |
| Название транслитом | kompyuternoe-modelirovanie-nanotehnologiy-nanomaterialov-i-nanostruktur-matematicheskoe-modelirovanie-fotolitograficheskih-processov-i-processov-elektronnoy-litografii-pri-sozdanii-submikronnyh-struktur-i-struktur-s-nanometrovymi-razmerami-sergey-yurchuk |
| Просмотров | 0 |
| Рейтинг enc.su | 0,0 |
Курс лекций описывает основные математические модели фотолитографии и электронной литографии, используемых при создании субмикронных структур. Приведены модели отдельных процессов фотолитографии: формирование изображения в фоторезисте, экспонирование, травление фоторезиста. Показаны ограничения, которые накладываются на процесс фотолитографии. Приведена теория электронной эмиссии, используемая для моделирования формирования электронного пучка. Описан эффект близости, который вносит ограничения в точность формирования изображения при электронной литографии. Показаны способы коррекции эффекта близости. Предназначен для студентов, обучающихся в магистратуре по направлению 210100 «Электроника и наноэлектроника».
Напишите вашу рецензию на книгу:
Сергей Юрьевич Юрчук «Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами»
Рецензии пользователей
Пока еще никто не написал рецензию на эту книгу.