Изложен процесс фотолитографии в производстве изделий полупроводниковой электроники и микроэлектроники, описаны методы изготовления фотошаблонов и основное оптикомехани-ческое оборудование для этих целей, а также контрольно-измерительные приборы разработки народного предприятия "Карл Цейсе йена" (ГДР) для оценки характеристик фотошаблонов. Приведены основные соотношения классической оптики применительно к технике изготовления фотошаблонов и фотолитографии и инструментальные погрешности при изготовлении фотошаблонов.Книга рассчитана на специалистов, занимающихся микро-фотогравировкой при разработке и производстве полупроводниковых приборов, микросхем и печатных схем, а также на студентов соответствующих вузов. Это и многое другое вы найдете в книге Фотолитография и оптика (Автор не указан)